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膜极距单元槽

我厂引进技术,推广膜极距离子膜单元槽。

新活性技术具有更加低的析氢过电位,并能很好的解决涂层性能要求高、表面要求光滑等问题。我们采用的阴极面网由很细的镍丝编织而成,开孔率增加,具备很好的容忍性。

所改造可完全满足零极距电槽所运行的高电密、低电压、紧贴膜等条件。

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